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Fujifilm: Neue Photopolymer-Offsetplatte

Brillia LP-N3 »trotzt dem Streulicht«

Mit der Brillia LP-N3 stellt Fuji Photo Film Europe eine neue hochempfindliche Photopolymer-Offsetplatte vor. Sie ist speziell auf den ebenfalls neu entwickelten Entwickler LP-DS und das Regenerat für Entwickler LP-DRCK abgestimmt. Die neue LP-N3 wird ihre Vorgängerin LP-NS2 ablösen. Eine gemischte Verarbeitung beider Platten ist nicht möglich. Lieferbar ist die Brillia LP-N3 in den Stärken 0,15, 0,20 und 0,30 sowie nach Sonderbestellung auch in den Stärken 0,24 und 0,40 mm. Die neuen Photopolymerplatte ist resistent gegen Verarbeitungschemikalien und unempfindlich gegen Streulicht, verspricht der Hersteller. In der Druckmaschine lässt sich die Brillia LP-N3 mit den gleichen Materialien einsetzen wie die Vorgängerin LP-NS (Feuchtwasserzusatz, Druckfarbe und - hilfsmittel). Die LP-N3 ist uneingebrannt zusammen mit UV-Farben verwendbar. Bei Einsatz von gestrichenen Papiersorten liegt die Auflagenfestigkeit ohne Einbrennen zwischen 100.000 und 200.000 Drucken.

Fujifilm http://www.fujifilm.de

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